超精细磁流变抛光（Magnetorheological Finishing，MRF）技能自1998年被美国QED公司成功研发之后，其无应力、无亚外表损害、柔性剪切去除等特性遭到国内外很多科研单位的喜爱，与离子束加工技能（Ion beam figuring，IBF）共同被认为是近30年来光学加工范畴最为立异的两大技能。而柔性剪切磁流变抛光液、高效去除算法的校正与补偿是磁流变工艺技能的首要中心，美国QED公司在该范畴对外实施技能封闭。

  光学加工是一项极端杂乱的工艺进程，跟着现代精细光学体系对光学元件面形精度、光洁度、粗糙度等要求的不断的进步，传统光学加工技能已不能彻底习惯当时光学体系的展开的新趋势。近期，中国科学院光电技能研讨所超精细光学技能及配备整体部钟显云带领的精细光学加工课题组在国家严重专项课题的支持下，先后突破了双相基载磁流变抛光液的研发技能和根据Bayesian迭代的抛光斑校正与补偿算法，并在现有的MRF设备上成功处理研讨所多块高难度光学元件的精细制作。

  因为光学资料功能存在必定的差异，磁流变对不相同的资料的去除机理及功率也不彻底相同。课题组对磁流变抛光液进行了多年的理化剖析及试验测验，对抛光液的成分及份额做不同程度的调整，共完成了三种双相基载磁流变抛光液的研发，别离适用于Fused Silica、Zerodur等惯例光学玻璃资料、Si、CaF

  、ZnSe等软性资料、Rb-SiC，S-SiC等硬性资料。开发的根据Bayesian迭代的抛光斑校正与补偿算法，有用地对光学元件低频差错（f8mm

  ）确定性去除，并有用按捺了中频差错，低频收敛精度由75%提升为93%，中频差错由4nm-6nm按捺在1nm以内。

  课题组展开的磁流变工艺技能验证了光学元件纳米精度制作（平面：rms1.7nm，f/1球面：rms1.8nm），并成功处理了超薄窗口、轻量化结构非球面主镜（ULE资料）以及超薄自习惯变形次镜（Si资料）等高难度元件加工，一起处理了照明体系CaF

  凹凸锥超润滑加工（凸锥面Rq：0.4nm，凹锥面Rq：0.7nm）以及物镜体系非球面纳米精度、超润滑加工（Rq：0.21nm-0.3nm）。